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无尘车间的清洁要求和注意事项

（1）三个月擦一次架空地板底下的柱子和支撑柱；

（2）用90%去离子水和10%的异配置清洁剂；

（3）吸完地以后再擦地。一周擦一次墙面；

（4）每天都要检查车间和整备间的垃圾箱，并及时清走；

（5）在洁净室里吸尘应使用带有过滤器的专用真空吸尘器；

（6）每块地板都要吸尘。每次交接班时，都应在地图上标明工作完成情况，例如在哪结束从哪开始；

（7）架空地板下也要吸尘及擦拭；

（8）使用已获批准的洁净室专用去污剂；

（9）工作时一定要记住，永远是由上往下擦，从离门远的地方向门的方向擦；

（10）清洁洁净室的地面应使用专用拖把；

（11）所有的门都需要检查并擦干;

（12）清洁洁净室内的墙时应使用洁净室无尘布。

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每立方米将小于0.3微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准的1级。目前应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于1级，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。5μm及以下的微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。

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化学式净化方式 1光催化法 　工作原理：空气通过光催化空气净化装置时，光触媒在光的照射下自身不起变化，却可以促进化学反应的物质空气中的***物质如甲醛、苯等在光催化的作用下发生降解，生成***无害的物质，而空气中的***也被紫外光除掉，空气因此得到净化。 缺点：广谱但需要空气流速较低，净化速度比较慢并且对***有一定的辐射，在欧美是被汰的净化方式。